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          華軟科技連續拿下5個漲停板 公司稱光刻膠基材業務未出現變化

          每日經濟新聞 2025-09-25 19:58:25

          9月25日,華軟科技股價漲停,公司自9月19日以來連續5個交易日漲停。公司于9月22日及24日發布公告,稱無應披露未披露事項。華軟科技董事會秘書座機電話的接線人員表示,光刻膠基材業務未變化。公司在公告中表示,近期“光刻膠”概念受市場關注度較高,目前公司主營業務為精細化工產品的研發、生產與銷售。

          每經記者|王佳飛    每經編輯|魏官紅    

          9月25日,華軟科技(002453.SZ,股價9.76元,市值79.29億元)繼續漲停。9月19日以來,華軟科技連續5個交易日漲停,股價已經從9月19日開盤時的6.05元/股上漲至如今的9.76元/股。

          華軟科技接連在9月22日及9月24日發布股票交易異常波動公告,稱公司不存在“應予以披露而未披露的事項或與該事項有關的籌劃、商談、意向、協議等”。

          9月25日,華軟科技董事會秘書座機電話的接線人員向《每日經濟新聞》記者表示,公司光刻膠基材業務未出現變化。

          華軟科技:光刻膠基材業務對公司的經營業績影響較小

          華軟科技股價上漲被認為與公司涉及“光刻膠”概念相關。

          公司在公告中表示,近期“光刻膠”概念受市場關注度較高,目前公司主營業務為精細化工產品的研發、生產與銷售,主要產品為造紙化學品、醫藥/農藥中間體、熒光增白劑及電子化學品。

          “關于光刻膠基材業務,公司現有光引發劑產品,按客戶訂單小批量生產銷售,2024年該產品收入占公司總營收不到2%,連續兩年對公司的經營業績影響較小,未來銷售情況受多種因素影響存在較大不確定性。”

          9月25日,華軟科技董事會秘書座機電話的接線人員向《每日經濟新聞》記者表示,2025年上半年,公司光刻膠基材業務和此前沒有太大區別。

          記者注意到,華軟科技2022年開始涉足光刻膠業務。2022年12月11日舉行的一場投資者關系活動中,公司表示:“根據實際發展需求,公司近期在滄州試生產光刻膠系列材料。關于193納米光刻膠的基材產品,部分產品已完成中試,正在對接客戶。”2023年5月16日,華軟科技又表示,公司相關光刻膠基材產品業務正處于客戶接洽階段,已有少量試訂單。

          需要注意的是,年報數據顯示,華軟科技自2021年以來便處于虧損狀態。2025年上半年,公司實現營業收入1.71億元,同比下降31.63%;歸屬于上市公司股東的凈利潤為-9159萬元,上年同期為-5978萬元;經營活動產生的現金流量凈額由上年同期的776萬元轉為-2620萬元。

          光刻膠概念走熱

          近期,光刻膠相關概念受到廣泛關注。《每日經濟新聞》記者注意到,相關概念股中,彤程新材(603650.SH,股價42.15元,市值252.46億元)9月23日開盤時股價為36.56元/股,9月25日收盤時股價達42.15元/股;南大光電(300346.SZ,股價41.91元,市值289.66億元)9月15日開盤時股價為35.24元/股,9月24日達到近期高點45元/股,9月25日收盤時股價為41.91元/股。

          QYResearch調研團隊發布的報告顯示,預計2031年全球ArF和KrF光刻膠用樹脂市場規模將達到7.3億美元,未來幾年年復合增長率為6.2%。

          9月25日,QYResearch半導體行業分析師楊君平告訴《每日經濟新聞》記者,光刻膠領域受到關注,一方面是因為近期國內半導體各環節企業的股價表現都不錯,如中芯國際(688981.SH)、北方華創(002371.SZ)等股價都有所上漲。另一方面,光刻膠國產率較低,未來國產替代空間巨大。

          相關研報表示,中國光刻膠行業的政策環境呈現出系統性、協同性和戰略導向性三大核心特征,通過將樹脂、單體等核心原材料納入扶持范圍,引導產業鏈上下游企業形成協同創新網絡,由此,國產半導體光刻膠市場占有率從2020年不足5%躍升至2024年的15%,其中,KrF光刻膠已在中芯國際、長江存儲等頭部晶圓廠實現批量供貨,而ArF光刻膠也在28納米制程節點完成工藝驗證。

          此外,記者注意到,清華大學方面7月23日發布消息稱,清華大學化學系許華平教授團隊在極紫外(EUV)光刻材料上取得重要進展,開發出一種基于聚碲氧烷(Polytelluoxane,PTeO)的新型光刻膠,為先進半導體制造中的關鍵材料提供了新的設計策略。該研究提供了一種融合高吸收元素Te(碲)、主鏈斷裂機制與材料均一性的光刻膠設計路徑,有望推動下一代EUV光刻材料的發展,助力先進半導體工藝技術革新。

          封面圖片來源:視覺中國-VCG211415728314

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