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    每日經濟新聞
    
    

          
  
          
   




      
          
        
          
          
            
            

                
          

     
  
          

          






    





























    
  


          
  
  
          
    
          
      
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            極紫外光刻新技術問世 能大幅提高能源效率并降低半導體制造成本
        
          
        
        
          
          
            
          
          
            2024-08-02 07:43:40
          
        
          

        
          

        
          

      
          
      


      
      
          
        



        

        
        
          每經AI快訊，據日本沖繩科學技術大學院大學（OIST）官網最新報告，該校設計了一種極紫外（EUV）光刻技術，超越了半導體制造業的標準界限。基于此設計的光刻設備可采用更小的EUV光源，其功耗還不到傳統EUV光刻機的十分之一，從而降低成本并大幅提高機器的可靠性和使用壽命。（科技日報）
          

        


        
      
          
    
          


    
    
          
      
           責編  王曉波
      
    
          

    

    
          
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