荷蘭推DUV光刻機“出口管制”？ASML最新回應聲明來了

每經記者｜朱成祥    每經編輯｜魏官紅    

6月30日，關于荷蘭政府頒布最新半導體設備出口管制條例的相關內容，ASML方面向《每日經濟新聞》記者提供了一份聲明。

聲明顯示，2023年6月30日——荷蘭政府頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。正如其在今年3月發布的消息中所述，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。

根據新出口管制條例規定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（即TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節。

ASML方面表示，公司的EUV光刻系統在此前已經受到限制。ASML其他光刻系統的發運未受荷蘭政府管控。公司將繼續遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

此外，荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。

基于今日（6月30日）的公告，ASML認為這些管制條例不會對已發布的2023年財務展望以及于2022年11月投資者日宣布的長期展望產生重大影響。

需要重點指出的是，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式系統。此外，ASML長期展望的基礎是全球的長期需求和技術趨勢。

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